崇越科技股份有限公司
企业简介

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崇越科技股份有限公司的商标信息
序号 注册号 商标 商标名 申请时间 商品服务列表 内容
1 3562700 TOPUQ 2003-05-21 数据通讯网络上的在线广告;商业信息;组织商业或广告展览;投标报价;进出口代理;推销(替他人);替他人作中介(替其它企业购买商品或服务);网路购物(替他人);通过互联网推销(替他人) 查看详情
2 3364660 崇越科技;TOPCO SCIENTIFIC 2002-11-11 水质净化;废水处理;空气净化;废气处理;废弃物销毁处理;废弃物焚化处理;废弃物掩埋处理;废弃物再生处理 查看详情
3 3970647 崇越 2004-03-22 清洁建筑物(外部);建筑;建筑信息;维修信息;清洁建筑物(内部);排灌设备的安装和修理;供暖设备的安装和修理;车辆加油站;消毒;非农业灭虫 查看详情
4 3821804 崇越 2003-12-01 水质净化;废水处理;空气净化;废气处理;废弃物销毁处理;废弃物焚化处理;废弃物掩埋处理;废弃物再生处理 查看详情
5 4828161 崇越 2005-08-10 进出口代理;推销(替他人);投标报价;商业行情代理;商业信息;替他人作中介(替其它企业购买商品或服务) 查看详情
6 4828149 TOPCO 2005-08-10 空气污染防治设施的设计;水污染防治设施的设计;环境污染评估顾问;环境污染防治工程顾问 查看详情
7 3364659 崇越;TOPCO 2002-11-11 工程;研究与开发(替他人);建设项目的开发;工程绘图;环境保护咨询;环境污染之检测 查看详情
8 4828157 TOPCO 2005-08-10 半导体用光阻液(膜);除去电路板及电子零件光阻液及熔接剂之化学溶剂;有机硅树脂;未加工人造树脂 查看详情
9 4828155 TOPCO 2005-08-10 进出口代理;推销(替他人);投标报价;商业行情代理;商业信息;替他人作中介(替其它企业购买商品或服务); 查看详情
10 4828150 TOPCO 2005-08-10 废水净化处理;废气净化处理;废弃物再生处理;废弃物销毁处理;废弃物焚化处理;废弃物及可再回收物的分类(变形);废弃物掩埋处理;晶圆蚀刻处理;半导体封装处理;集成电路蚀刻处理 查看详情
11 4828160 崇越 2005-08-10 空气污染防治设施的安装及修理;水污染防治设施的安装及修理;垃圾及废弃物处理工程的建设;焚化炉安装及修理;能源利用设施的安装及修理;机器安装及修理;计算机硬件安装、维护和修理 查看详情
12 3364661 崇越科技;TOPCOSCIENTIFIC 2002-11-11 空气污染防治设施之施工营建及修缮;水污染防治设施之施工营建及修缮;公害防治处理工程之施工营建及修缮;能源利用设施之施工营建及修缮; 查看详情
13 4828162 崇越 2005-08-10 晶片(锗片);晶圆;半导体;集成电路;光罩;电路板;太阳能电池;硅晶体;电阻器;半导体器件 查看详情
14 4828151 TOPCO 2005-08-10 空气污染防治设施的安装及修理;水污染防治设施的安装及修理;垃圾及废弃物处理工程的建设;焚化炉安装及修理;能源利用设施的安装及修理;机器安装及修理;计算机硬件安 查看详情
15 4828156 TOPCO 2005-08-10 太阳能电池 查看详情
16 3364662 崇越科技;TOPCO SCIENTIFIC 2002-11-11 进出口代理;投标报价;推销(替他人);商业询价 查看详情
17 4828159 崇越 2005-08-10 废水净化处理;废气净化处理;废弃物再生处理;废弃物销毁处理;废弃物焚化处理;废弃物及可再回收物的分类(变形);废弃物掩埋处理;晶圆蚀刻处理;半导体封装处理;集成电路蚀刻处理 查看详情
18 4828158 崇越 2005-08-10 空气污染防治设施的设计;水污染防治设施的设计;环境污染评估顾问;环境污染防治工程顾问 查看详情
崇越科技股份有限公司的专利信息
序号 公布号 发明名称 公布日期 摘要
1 TWM394325 废水处理系统 2010.12.11
2 CN1168129C 晶片测试载架 2004.09.22 一种晶片测试载架。为提供一种保证测试准确性、使用方便、提高测试速度的半导体元件生产辅助装置,提出本发
3 TW200935494 一种晶圆电路保护结构及其制造方式 2009.08.16 本发明系揭露一种晶圆电路保护结构,一种晶圆电路保护结构,其包含:一晶圆具有一第一预设面与一第二预设面
4 TWI222914 具规则性排列之磨料的研磨工具制造方法 2004.11.01 本发明系有关于一种具规则性排列之磨料的研磨工具制造方法,其系在一基材上电镀形成一布置层;之后在布置层
5 CN1598816A 自动产生关键词分类表的系统 2005.03.23 自动产生关键词分类表的系统,包括有原始数据库,与处理单元相连接,储放有原始文件资料,接收并删除原始资
6 TW200925121 显影制程废水处理装置及方法 2009.06.16 本创作系揭露一种显影制程废水处理装置及方法,包括显影制程废水储存装置、酸液储存单元、酸化混合单元、第
7 CN201046385Y 将化学品原液量稀释的装置 2008.04.16 本实用新型是关于一种用纯水将酸或碱等化学品的原液量稀释以制备目标浓度的混合溶液的装置,其装置是利用:
8 CN101654161A 包装结构 2010.02.24 一种包装结构,用于容纳至少一板件。所述包装结构包括一个定位板、一个内箱体、多个加强柱及一个外箱体。内
9 TW568213 阀歧管系统之阀箱结构 2003.12.21 本创作系有关于一种阀歧管系统之阀箱结构,其系包括有一箱体,箱体顶部其系穿设有至少一歧管,歧管系穿过箱
10 CN2606237Y 阀歧管系统的阀箱结构 2004.03.10 一种阀歧管系统的阀箱结构,其包括有一箱体,箱体顶部穿设有至少一歧管,歧管穿过箱体顶部与箱体内部的一开
11 TW200425997 具规则性排列之磨料的研磨工具制造方法 2004.12.01 本发明系有关于一种具规则性排列之磨料的研磨工具制造方法,其系在一基材上电镀形成一布置层;之后在布置层
12 CN104888538B 多孔性固态材料的制造方法 2017.03.01 本发明为一种多孔性固态材料的制造方法,包括以下步骤:制备一混合液,其由聚乙烯醇与溶剂混合而成;加热混
13 CN205676189U 挥发性废水处理系统 2016.11.09 一种挥发性废水处理系统,包含离心式气液分离装置及高温分解装置。离心式气液分离装置包含壳体、离心筒槽、
14 CN103725196B 触控面板及其遮光材料 2016.03.16 本发明提出一种触控面板及其遮光材料,遮光材料用以涂布于触控面板的玻璃基板的边缘,此遮光材料包含硅胶及
15 TWI515244 多孔性固态材料的制造方法 2016.01.01 明为一种多孔性固态材料的制造方法,包括以下步骤:制备一混合液,其系由聚乙烯醇与溶剂混合而成;加热混合
16 CN100418247C 多腔体分离外延层有机金属化学气相外延装置及方法 2008.09.10 本发明涉及一种多腔体分离外延层有机金属化学气相外延装置及方法,利用本发明提供的多腔体分离外延层有机金
17 CN204702589U 控制溶液氟离子装置 2015.10.14 一种控制溶液氟离子装置,包含溶液反应设备、第一输送设备以及第二输送设备。溶液反应设备包含桶槽,桶槽装
18 CN101462808B 显影制程废水处理装置及其废水处理方法 2010.12.08 本发明是有关于一种显影制程废水处理装置及其废水处理方法,包括显影制程废水储存装置、酸液储存单元、酸化
19 包材结构 2011.04.01
20 TWI378890 容器洁净系统及其方法 2012.12.11 本发明系揭露一种容器洁净系统及其方法,系用于半导体晶圆盒之清洗及乾燥,其包含壳体、平台、洁净模组、传
21 TWI500953 触控面板及其遮光材料 2015.09.21
22 CN104888538A 多孔性固态材料的制造方法 2015.09.09 本发明为一种多孔性固态材料的制造方法,包括以下步骤:制备一混合液,其由聚乙烯醇与溶剂混合而成;加热混
23 CN204508920U 去除溶液污染物装置 2015.07.29 一种去除溶液污染物装置,包含溶液反应设备以及添加设备。溶液反应设备包含桶槽以及曝气装置。桶槽接收并盛
24 TWM502684 控制溶液氟离子系统 2015.06.11
25 TWM502685 去除溶液污染物系统 2015.06.11
26 CN103725196A 触控面板及其遮光材料 2014.04.16 本发明提出一种触控面板及其遮光材料,遮光材料用以涂布于触控面板的玻璃基板的边缘,此遮光材料包含硅胶及
27 CN103293574A 可挠式光学膜及其制作方法 2013.09.11 本发明公开了一种可挠式光学膜及其制作方法。所述可挠式光学膜包含:二氧化钛及硅胶;其中二氧化钛与硅胶是
28 CN202220106U 废水处理系统 2012.05.16 本实用新型揭露一种废水处理系统,尤其是指对研磨或切割过程衍生的废水的微细粒子与触媒行氧化还原反应与凝
29 CN102299391A 充电系统及其充电方法 2011.12.28 本发明揭露了一种充电系统及其充电方法,充电系统包含待充电单元及充电单元,待充电单元包含第一无线通讯装
30 CN201815042U 自动消防系统 2011.05.04 本实用新型公开一种自动消防系统,系在半导体或显示器的制程腔体发生火灾时进行灭火,其包含设于制程腔体周
31 CN201770529U 废水处理系统 2011.03.23 本实用新型揭露了一种废水处理系统,是结合化学反应及金属置换反应,其包括输送含有溶解性金属的废水的进水
32 CN101894310A 企业数据流服务系统 2010.11.24 本发明提供一种企业数据流服务系统。该系统包含数据库、操作接口及处理模块。数据库记录多个企业资源及多个
33 TWM380807 自动消防系统 2010.05.21 本创作系揭露一种自动消防系统,系于半导体或显示器之制程腔体发生火灾时进行灭火,其包含设于制程腔体周围
34 CN101567368A 晶片电路保护结构及其制造方法 2009.10.28 本发明公开了一种晶片电路保护结构,该晶片电路保护结构包括:晶片,具有第一预设面和第二预设面,第一预设
35 CN101462808A 显影制程废水处理装置及其废水处理方法 2009.06.24 本发明是有关于一种显影制程废水处理装置及其废水处理方法,包括显影制程废水储存装置、酸液储存单元、酸化
36 CN101441737A 流程管控企业资源规划管理系统及其方法 2009.05.27 本发明是关于一种流程管控企业资源规划管理系统及其方法,揭露一种通过流程控管的企业资源规划(ERP)管
37 TW200921527 流程管控企业资源规划管理系统 2009.05.16 本发明系揭露一种透过流程控管的企业资源规划(ERP)管理系统(简称PERP)。其特征在于此系统可藉由
38 CN201140040Y 薄膜过滤洗涤装置 2008.10.29 本实用新型是有关于一种薄膜过滤洗涤装置,其包含:一管体、至少一薄膜膜管、一洗涤液输送体及一出水管路。
39 TWM331397 薄膜过滤洗涤装置 2008.05.01 本创作系揭露一种薄膜过滤洗涤装置,包含:一管体、至少一薄膜膜管、一洗涤液输送体、一出水管路。管体具有
40 TWM322617 光罩装置 2007.11.21 本创作系揭露一种光罩装置,主要至少包括一基材及一含氟矽护膜。其中含氟矽护膜位于基材上,此基材之材质一
41 TWI289937 白光发光二极体元件 2007.11.11 本发明系揭露一种白光发光二极体,其系以碲化锌或硒化锌为基板,且于基板上藉由设置一单晶结构之磷化硼缓冲
42 TWM314068 将化学品原液量稀释之装置 2007.06.21 本创作系关于一种用纯水将酸或硷等化学品之原液量稀释以制备目标浓度的混合溶液之装置,其装置系利用:以目
43 TWI255992 网页伺服装置 2006.06.01 本发明系揭露一种网页伺服装置,用以防止骇客端,透过一网路对此网页伺服装置之一后端资料库作一存取破坏。
44 TWI251158 以网域名称之数字做为网站交易价格之系统及方法 2006.03.11 本发明系提供一种「以网域名称之数字做为网站交易价格之系统及方法」,其主要特征系藉由一伺服装置,于一网
45 TWI250817 发光二极体灯泡之制作方法及其结构 2006.03.01 本发明系有关于一种发光二极体灯泡之制作方法及其结构,其结构系包括有一导电基板、一绝缘模板、复数晶粒、
46 CN1238909C 发光二极管灯泡的制作方法及其结构 2006.01.25 本发明为一种发光二极管灯泡的制作方法及其结构,其结构包括有一导电基板、一绝缘模扳、多个发光二极管芯片
47 TWI246153 防止微粒子沉积于隔离基板的改良方法 2005.12.21 本发明系提供一种防止微粒子沉积于隔离基板的改良方法,主要先将第一隔离基板置入反应室中,利用第一隔离基
48 TW200515522 晶圆承载装置 2005.05.01 一种用于承装半导体晶圆之晶圆承载装置,其主要包括有:一第一侧柱、一位于第一侧柱相对位置之第二侧柱及一
49 TW200514192 防止微粒子沉积于隔离基板的改良方法 2005.04.16 本发明系提供一种防止微粒子沉积于隔离基板的改良方法,主要先将第一隔离基板置入反应室中,利用第一隔离基
50 TW200514139 晶圆遮蔽装置 2005.04.16 本发明系提供一种晶圆遮蔽装置,其系包括:一反应室,具有支撑基材之座台,并与座台相对形成一气流导引口;
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